Entfernung von Wasserstoff aus Neon-Helium-Gasgemisch
Neon, wichtiger Bestandteil für die Chip- bzw. Semiconductor-Herstellung. Unzählige Industriezweige sind betroffen. Gerade, als sich die Lieferketten von den Auswirkungen der globalen Pandemie zu erholen schienen, wurde mit dem Ukraine-Krieg die Hälfte der weltweiten Neon-Produktion unterbrochen.
Unsere He/Ne-Reinigungsanlage wird Teil einer Anlage zur Neon-Verflüssigung in den USA. Diese Gasreinigungsanlage entfernt Wasserstoff aus einem Rohgasgemisch bestehend aus Stickstoff, Argon, Wasserstoff und nicht zuletzt Helium und Neon. Der Reaktor ist für eine Gasmenge von 35 Nm³/h 40 bar(a) ausgelegt, der Wasserstoff wird auf < 1 ppmv reduziert. Weiterer Bestandteil ist eine Begleitheizung, die Außenaufstellung konzipiert.
Bevor sich diese ReiCat-Gasreinigungsanlage auf den Weg begab, standen einige Vorbereitungen an. Es erfolgte zunächst der Helium-Leck-Test und die Zertifizierung nach geforderten Normen.
